浙江森田新材料有限公司
浙江森田新材料有限公司成立于2003年，注冊資金2700萬美元，公司坐落在浙江省金華市武義縣新材料產業園區，是一家由日本森田化學工業株式會社和浙江三美化工股份有限公司共同投資成立的中日合資企業。主要生產微電子蝕刻及清洗級材料，應用于半導體及微電子技術加工和太陽能光伏等行業，是集成電路（IC）制造的關鍵性基礎材料之一。
公司引進日本先進的超高純清洗與蝕刻用電子材料生產設備和技術，形成年產5萬噸電子級氫氟酸、5.2萬噸BOE、1.5萬噸高純氨水、3萬噸高純雙氧水、3萬噸混合蝕刻液的生產能力。
日本森田化學工業株式會社是一家日本的百年企業，致力于半導體氟化學品的研發與制造，是日本首家成功開發氫氟酸生產技術的化學公司，享有“日本氟化物歷史的創造者”之盛名，擁有世界頂尖技術。
浙江森田新材料有限公司經過十幾年的經營與發展，已集聚了一大批素質較好的經營管理者、技術人才和產業工人，積累了比較豐富的企業運營、安全環保等方面的經驗，建立健全了比較完善的各項企業管理制度，先后通過了ISO9001質量管理體系、ISO14001環境管理體系、OHSAS18001職業健康安全管理體系等認證。公司依托日本森田化學工業株式會社半導體氟化學品的研發與制造的領先技術，以及浙江三美化工股份有限公司成熟的化工企業生產經營背景，致力于發展成為一家在全球微電子蝕刻材料行業中，技術領先的高新技術企業。